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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 多种工艺气体
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牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD 可检测Nano
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD可以用在纳米材料行业领域,用来检测Nano Material,可完成Nano Material项目。符合多项行业标准
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等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD牛津仪器 可检测Material
所有的要求。 主要特点和优势包括:具有独家的静电吸盘技术,能固定蓝宝石,和生长蓝宝石或硅上的氮化镓;高功率的ICP能生产出高密度的等离子体;磁隔离区可提高离子控制和均匀性;高电导泵水系统可以在低压
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用光子学
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 半导体制造
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power
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镀膜机PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 可检测Power
Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用微流体技术
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用于微机电系统
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镀膜机等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD 适用于Power Semiconductors
水系统可以在低压下zei大化地运送气体。 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体
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